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Thermal ALD
Thermal ALD是一种使用热能作为反映能，在加热的衬底上陆续脉冲通入气相先驱体源和反映物，并在衬底上产生反映天生薄膜的一种设备。由于原子层沉积的表表反映拥有自限度性，在每个反映周期能够实现单原子层厚度，因而能够通过节造反映周期的数量获得膜层均匀、保形性好、台阶覆盖率高以及厚度节造的薄膜。
详情介绍
设备技术参数：
加热温度：0-400℃
基片尺寸：4寸、6寸、8寸
匹配的臭氧浓度：100g/Nm3-350g/Nm3
联系信息
电话：（+86）0551-68992851
邮箱： info@adchem-tech.com
网址： www.adchem-tech.com
地址： 岳阳市高新区创新大路106号
明珠产业园1号楼C区4层
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